厂商：中国电子科技集团

型号：Peva-600I

技术指标：

1.可加工横向尺寸4英寸及以下的wafer；

2.一次加工2-6片wafer（视wafer尺寸大小），

3.由于镀液是酸性的，样品需要耐酸性溶液，镀100微米需要4小时左右。

工艺特点：

设备简单、花费低、属低温工艺。